武汉净化工程设计生产厂家

　　武汉净化工程设计生产厂家

　　按照国际惯例，无尘净化级别主要是根据每立方米空气中粒子直径大于划分标准的粒子数量来规定。也就是说所谓无尘并非100%没有一点灰尘，而是控制在一个非常微量的单位上。当然这个标准中符合灰尘标准的颗粒相对于我们常见的灰尘已经是小的微乎其微，但是对于光学构造而言，哪怕是一点点的灰尘都会产生非常大的负面影响，所以在光学构造产品的生产上，无尘是必然的要求。

　　为不干扰室内的洁净气流型式，在作业区上流侧不应放置物品，回风口附近不要堆放物；送风孔板下不应堵塞和堆放物品，生产操作应在洁净工作台或气流的上游进行。不允许将与生产无关的和容易产尘的物品带入洁净室内。严禁在无尘净化车间内吸烟、饮食和进行非生产性活动。进入无尘净化车间前，个人物品须放入指定的柜子，去掉化妆和首饰，换上指定的洁净服、鞋。戴帽时，应将头发遮住，鞋套应将裤脚下摆紧紧裹在鞋套。

　　目前半导体洁净室对温湿度的控制范围通常为:温度22±2℃，湿度45±5%RH。本文通过对现有洁净室温湿度控制系统的研究，引入模糊控制，以提高温湿度控制的实际效果。对空气单纯地加热或制冷(未达到饱和状态)过程，是含湿量保持不变的过程，即对湿度保持不变的过程。湿空气经过盘管加热，温度升高而相对湿度下降;相反,对冷却过程，温度下降而相对湿度相应升高，因此我们可以得出，温度和相对湿度是两个不同方向的控制量，要使温湿度同时向相同的趋势变化，

　　为了达到目标温湿度控制点，其对应的温湿度控制分区处理过程为:在Zone 1 的范围内，先降温去湿，再加热。在Zone 2的范围内，先降温，再加湿。在Zone 3 的范围内，先加热，再加湿。在Zone4 的范围内，先降温去湿，再加热。定义:D—控制对象含湿量，T—控制对象温度。通常情况下， 对于设定值温度22±2℃，湿度45±5%RH 而言，Zone1 和Zone3的情况比较多，即需要先降温去湿然后再加热或者先加热然后再加湿。