福建食品仟级无尘车间专业规划设计
以上就是对洁净车间的使用要求的介绍，希望能够帮助到大家!我们大家在日常使用洁净车间的时候，一定要注意以上所说的几点，以免对于洁净车间的环境造成负面的影响，从而影响生产质量，造成不可估量的损失，那就得不偿失了。所以，对于无尘洁净车间的使用要求我们要牢记于心。单向流气流的净化原理是活塞和挤压原理，把灰尘从一端向另一端挤压出去，用洁净气流置换污染气流，包括垂直单向流和水平单向流。垂直单向流是气流以一定的速度（0.25~0.5m/s）从顶棚流向地坪的气流流型。这种气流能创造100级、10 级、1级或更高洁净级别。但其初投资很高、运行费很高，工程中尽量将其面积压缩到较小，用到须用的部位。水平单向流是气流以一定的速度（0.3~0.5m/s）从一面墙流向对面墙的气流流型。该气流可创造100 级的净化级别，其初投资和运行费低于垂直单向流流型。
目前半导体洁净室对温湿度的控制范围通常为:温度22±2℃，湿度45±5%RH。本文通过对现有洁净室温湿度控制系统的研究，引入模糊控制，以提高温湿度控制的实际效果。对空气单纯地加热或制冷(未达到饱和状态)过程，是含湿量保持不变的过程，即对湿度保持不变的过程。湿空气经过盘管加热，温度升高而相对湿度下降;相反,对冷却过程，温度下降而相对湿度相应升高，因此我们可以得出，温度和相对湿度是两个不同方向的控制量，要使温湿度同时向相同的趋势变化，
在生物制的洁净车间中对易吸潮品的相对湿度要求45％一50％RH(夏季)，片剂等固体制剂50％～55％RH，水针及口服液55％～65％RH。清洁车间大部分净化厂房尤其电子工业用的洁净厂房都有严格的恒温、恒湿的要求，不仅对厂房内的温、湿度有严格的要求，而且对温度和相对湿度的波动范围也有严格的要求。这样有利于的控制品的生产质量。在大规模集成电路生产的光刻曝光工艺中，作为掩膜板材料的玻璃与硅(silicon)片的热膨胀系数的差要求越来越小。直径100um的硅片，温度上升1度，就引起了0。24um线性膨胀，所以有 plusmn;0。1度的恒温，同时要求湿度值一般较低，因为人出汗以后，对产品将有污染，是怕钠(Sodium)的半导体车间，这种车间不宜超过25度。没有洁净室，就不可能批量生产污染敏感的零件。在FED-STD-2中，洁净室被定义为具有空气过滤、分布、优化、结构材料和设备的房间，具体的规则操作程序控制空气悬浮颗粒的浓度，以达到适当的颗粒清洁度。