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乱流洁净室的主要特点是从来流到出流（从送风口到回风口）之间气流的流通截面是变化的，洁净室截面比送风口截面大得多，因而不能在全室截面或者在全室工作区截面形成匀速气流。所以，送风口以后的流线彼此有很大或者越来越大的夹角，曲率半径很小，气流在室内不可能以单一方向流动，将会彼此撞击，将有回流、旋涡产生。这就决定乱流洁净室的流态实质是突变流，非均匀流。这比用紊流来描述乱流洁净室更确切、更全面。紊流主要取决于雷诺数，也就是主要受流速的影响，但是如果采用一个过滤器顶送的送风形式，则即使流速底，也要产生上述各种结果，这就因为它是一个突变流和非均匀流。因此这种情况下不流层之间因紊流流动而发生的掺混，而且还有全室范围内的大的回流、旋涡所发生的掺混。
在生物制的洁净车间中对易吸潮品的相对湿度要求45％一50％RH(夏季)，片剂等固体制剂50％～55％RH，水针及口服液55％～65％RH。清洁车间大部分净化厂房尤其电子工业用的洁净厂房都有严格的恒温、恒湿的要求，不仅对厂房内的温、湿度有严格的要求，而且对温度和相对湿度的波动范围也有严格的要求。这样有利于的控制品的生产质量。在大规模集成电路生产的光刻曝光工艺中，作为掩膜板材料的玻璃与硅(silicon)片的热膨胀系数的差要求越来越小。直径100um的硅片，温度上升1度，就引起了0。24um线性膨胀，所以有 plusmn;0。1度的恒温，同时要求湿度值一般较低，因为人出汗以后，对产品将有污染，是怕钠(Sodium)的半导体车间，这种车间不宜超过25度。
出口湿度的设定值。根据送风露点温度并与露点温度设定值进行比较，通过PID控制算法，得出一个计算值，根据该计算值来确定表冷阀和加湿阀开度的大小，其控制流程与温度控制类似，同时也引入了分程控制，避免临界状态下加湿与之间不断切换而导致的湿度控制的波动。洁净室温度控制洁净室内的温度PID 控制流程如图6 所示，采用的是基本的PID 控制， 由于洁净室本身的大空间而造成的大惯性、大时滞性，在设置PID
乱流洁净室也叫非单向流洁净室，非单向流洁净室的原理是靠洁净送风气流扩散、混合、不断稀释室内空气，把室内污染逐渐排出，达到平衡。简言之，非单向流洁净室的原理就是稀释作用。 特点:乱流洁净室是靠多次换气来实现洁净与洁净级别。换气次数决定定义中的净化级别（换气次数越多，净化级别越高）。