重庆玻璃净化设备专业生产厂家
化学式净化方式光催化法 工作原理:空气通过光催化空气净化装置时，光触媒在光的照射下自身不起变化，却可以促进化学反应的物质空气中的有害物质如甲醛、苯等在光催化的作用下发生降解，生成无害的物质，而空气中的细菌也被紫外光除掉，空气因此得到净化。 缺点:广谱但需要空气流速较低，净化速度比较慢并且对人体有一定的辐射，在欧美是被汰的净化方式。 甲醛清除剂 工作原理:是采用化学物质和甲醛进行化学反应，达到清除甲醛的目的
所谓的无尘室是一个人造的环境，里面含有的粒子远低于一般的环境，随着集成电路的级数的成长，也增加了对制造环境(无尘室)洁净度要求，在工业上即使使粒子之尺寸想小于0.1微米.也可能阻碍产品的运作或降低其寿命。优于纳米技术的兴起，造成半导体关键尺寸持续缩小，集成电路积集度不断地增加，尘粒更容易使芯片失效或度恶化。例如当金属尘粒落到金属导线时，就可能会使金属导线形成短路。又如果有酸性的离子化合物尘粒掉在金属导线上，可能将其腐蚀，所以无尘室为集成电路制造的要素。
无尘净化板车间的优势，防尘，防静电，抗菌等效果；有一定的耐腐蚀性，洁净室通常都需频繁擦拭，除了用水擦拭还会用消毒水、酒精等消毒，这些液体通常都有一定的化学品性，会使一些材料表面变色、脱落、恒远使用宝钢、冠洲等优质耐腐蚀原材料，板材使用更持久；还具有很好的抗氧化性，不产生锈蚀，整体来说净化板有平整、耐磨、易除尘清洗、不易积聚静电、避免眩光、并有舒适感等优点。
开度增大以抵消新风带来的热负荷;如果进入洁净室的新风的温度过低，将使得在DCC开度为零时达到环境温度的要求。根据统计数据，空调系统的能耗占整个半导体厂的能耗的30%-35%，因此对空调设备进行优化控制，选择合理温湿度设定值，对提高整个洁净室温湿度控制的稳定性及具有重要的意义。随着半导体生产工艺的不断发展，更精密、集成度更高是行业发展的趋势。目前，制造工艺已经进入亚纳米时代，对生产设备的精度要求越来越严格，因此，除了设备本身的工艺水平需要达到生产要求以外，其所处的生产环境——洁净室的各项也被严格地控制，包括:洁净度、温湿度、照度、气流方向、振动静电、磁场以及有害气体等。其中的温湿度控制是重点，其控制的效果直接影响着生产的优良率。