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以上就是对洁净车间的使用要求的介绍，希望能够帮助到大家!我们大家在日常使用洁净车间的时候，一定要注意以上所说的几点，以免对于洁净车间的环境造成负面的影响，从而影响生产质量，造成不可估量的损失，那就得不偿失了。所以，对于无尘洁净车间的使用要求我们要牢记于心。单向流气流的净化原理是活塞和挤压原理，把灰尘从一端向另一端挤压出去，用洁净气流置换污染气流，包括垂直单向流和水平单向流。垂直单向流是气流以一定的速度（0.25~0.5m/s）从顶棚流向地坪的气流流型。这种气流能创造100级、10 级、1级或更高洁净级别。但其初投资很高、运行费很高，工程中尽量将其面积压缩到较小，用到须用的部位。水平单向流是气流以一定的速度（0.3~0.5m/s）从一面墙流向对面墙的气流流型。该气流可创造100 级的净化级别，其初投资和运行费低于垂直单向流流型。
初，确实认为这种单向平行的气流应该充满整个洁净室，但这在技术上和经济上都是不利的。随着认识的发展，人们又指出这种单向流只是“在有限的领域内空气沿平行流线以匀速流动的意思”，并认为能力抑制涡流的发生。全空间的清洁空气的单向流特性占支配房间，也称为单向流洁净室。这就是说不要求在整个房间都具有单向平行的流线，均匀的速度，没有涡流，而是只要求单向平行流特性在这个房间中占支配。在整个工作区这一层空间了单向流，这个房间就是单向流洁净室。
在生物制的洁净车间中对易吸潮品的相对湿度要求45％一50％RH(夏季)，片剂等固体制剂50％～55％RH，水针及口服液55％～65％RH。清洁车间大部分净化厂房尤其电子工业用的洁净厂房都有严格的恒温、恒湿的要求，不仅对厂房内的温、湿度有严格的要求，而且对温度和相对湿度的波动范围也有严格的要求。这样有利于的控制品的生产质量。在大规模集成电路生产的光刻曝光工艺中，作为掩膜板材料的玻璃与硅(silicon)片的热膨胀系数的差要求越来越小。直径100um的硅片，温度上升1度，就引起了0。24um线性膨胀，所以有 plusmn;0。1度的恒温，同时要求湿度值一般较低，因为人出汗以后，对产品将有污染，是怕钠(Sodium)的半导体车间，这种车间不宜超过25度。
乱流洁净室也叫非单向流洁净室，非单向流洁净室的原理是靠洁净送风气流扩散、混合、不断稀释室内空气，把室内污染逐渐排出，达到平衡。简言之，非单向流洁净室的原理就是稀释作用。 特点:乱流洁净室是靠多次换气来实现洁净与洁净级别。换气次数决定定义中的净化级别（换气次数越多，净化级别越高）。