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无尘车间和净化车间均可应应用到微电子、光电子、电子加工、精密机械、食品等行业看到这里相比大家都有很大的疑问?净化车间和无尘车间的区别到底在哪里?其实无尘车间和净化车间并没有本质上的区别，只是叫法上的不同而已，本篇文章中列举的三个方面已经实了。所以无尘车间就是净化车间。无尘洁净系统对十万级洁净车间的作用十万级洁净车间的结构设计，为了使气流能够顺畅流通不受干扰,要进行必要的结构设计，避免有地方可以积累灰尘；
以无生命微粒的控制为对象。主要控制空气尘埃微粒对工作对象的污染，内部一般保持正压状态。它适用于精密机械工业、电子工业（半导体、集成电路等）宇航工业、高纯度化学工业、原子能工业、光磁产品工业（光盘、胶片、磁带生产）LCD（液晶玻璃）、电脑硬盘、电脑磁头生产等多行业。
在JIS标准下，无尘室清洁度，共分为8个等级一般清洁度是指空气的洁净等级，分为等级1、2???8，8阶段。在1立方公尺的空气中，粒径0.1微米的灰尘若是在10个以下时为1;百个以下是100=102是等级2;千个以下时是1000=103等级3，一次类推。21世界，尖端产业的发展，加速了产业结构的变革，无尘室设立之必要性也相对地提高。商品日渐的小型化和精密化，尘埃和温湿的变化对商品的完成度亦造成大的危害，导致品质低下。伴随商品的高品质要求，环境无尘化的需求也日益提高。因此在无尘室用防尘材料及商品都显得格外重要。
开度增大以抵消新风带来的热负荷;如果进入洁净室的新风的温度过低，将使得在DCC开度为零时达到环境温度的要求。根据统计数据，空调系统的能耗占整个半导体厂的能耗的30%-35%，因此对空调设备进行优化控制，选择合理温湿度设定值，对提高整个洁净室温湿度控制的稳定性及具有重要的意义。随着半导体生产工艺的不断发展，更精密、集成度更高是行业发展的趋势。目前，制造工艺已经进入亚纳米时代，对生产设备的精度要求越来越严格，因此，除了设备本身的工艺水平需要达到生产要求以外，其所处的生产环境——洁净室的各项也被严格地控制，包括:洁净度、温湿度、照度、气流方向、振动静电、磁场以及有害气体等。其中的温湿度控制是重点，其控制的效果直接影响着生产的优良率。