阳江医院万级无尘室专业团队一站式服务
材料和设备的进出也经过清洁程序，以免影响清洁度。清洁房间内的设备或材料时，工作人员穿干净的衣服。使用的擦拭纸是无尘纸或无尘布，不会脱落羊毛。除使用超纯水外，清洁剂还添加3~5%浓度的ipa或丙酮化学品，以增强去污能力。由于ipa和丙酮的挥发性，考虑该房间的排气影响。除了用于进出无尘车间的干净衣服、鞋子、兜帽、帽子、手套和口罩外，还有纸文具、桌子、椅子、芯片盒、手推车、笔记本、布告板、垃圾箱、吸尘器等。
以无生命微粒的控制为对象。主要控制空气尘埃微粒对工作对象的污染，内部一般保持正压状态。它适用于精密机械工业、电子工业（半导体、集成电路等）宇航工业、高纯度化学工业、原子能工业、光磁产品工业（光盘、胶片、磁带生产）LCD（液晶玻璃）、电脑硬盘、电脑磁头生产等多行业。
有些空气净化系统的空气，如经处理仍不能避免交叉污染时，则不能循环使用:固体物料的粉碎、称重、配料、混合、制料、压片、包衣、灌装等工序;用有机溶媒精制的原料精制、干燥工序;放射性品生产区;病原体操作区;工艺过程中产生大量有害物质、挥发性气体的生产工序;固体口服制剂的颗料 原则:无尘车间里存在大量可以节约能源的地方，例如暖气、通风和空调(HVAC)、工艺冷却、压缩空气以及一些其他的设施。 HVAC系统消耗的电力超过了整座晶片制造厂用电量的一半。之所以造成大量浪费电力及HVAC的容量过剩，很大程度上是因为在设计和建造工厂时走捷径，尽可能地压缩前期投入，而不顾后期运行费用。率的设计和率设备需要很大的前期投入。那种"小处节约大处浪费"的所谓捷径和削减成本，会造成工厂的运行性能降低和能耗增加。 对已建成工厂的改建通常会陷入到毫无意义的经济漩涡当中。
目前半导体洁净室对温湿度的控制范围通常为:温度22±2℃，湿度45±5%RH。本文通过对现有洁净室温湿度控制系统的研究，引入模糊控制，以提高温湿度控制的实际效果。温湿度控制系统实现基本上， 现在洁净室温湿度要求为22±2℃，45±5%RH，当然根据生产工艺的需求，对温湿度的要求也不尽相同。新风空调箱的温湿度控制新风空调箱基本结构新风空调箱基本结构如图3 所示，其处理流程如下:空气过滤———包括初效、中效、三部分;温度处理———包括预热盘管、一次表冷盘管、再热盘管三部分;