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洁净室是指将一定空间范围内空气中的微粒子、有害空气、细菌等污染物排除，并将室内温度、洁净度、室内压力、气流速度与气流分布、噪音振动及照明、静电控制在某一需求范围内，而所给予设计的房间。亦即是不论外在之空气条件如何变化，其室内均能俱有维持原先所设定要求之洁净度、温湿度及压力等性能之特性。洁净室主要之作用在于控制产品（如硅芯片等）所接触之大气的洁净度日及温湿度，使产品能在一个良好之环境空间中生产、制造，此空间我们称之为洁净室。按照惯例，无尘净化级别主要是根据每立方米空气中粒子直径大于划分标准的粒子数量来规定。也就是说所谓无尘并非100%没有一点灰尘，而是控制在一个微量的单位上。当然这个标准中符合灰尘标准的颗粒相对于我们常见的灰尘已经是小的微乎其微，但是对于光学构造而言，哪怕是一点点的灰尘都会产生大的负面影响，所以在光学构造产品的生产上，无尘是的要求。
覆膜写真的车间好无尘车间，以覆膜实际效果。在覆膜前务必将机器设备上和覆膜胶棍上的浮尘彻底除去。开展维修保养或检修查验时务必断开总开关电源，不能通电维护保养或检修。设备的电气控制系统应保持稳定的缘层，避免返潮。停用设备时要断开开关电源，出现意外。无尘车间是指将一定空间范围内之空气中的微粒子、有害空气、结构:荚膜、鞭毛、菌毛（fungus)等之污染物排除，并将室内之温度、洁净度、室内压力、气流速度与气流分布、噪音振动及照明、静电控制在某一需求范围内，而所给予设计之房间。话虽然这么说，但并不是的无尘车间都需要控制温湿度，无尘车间为什么要控制温湿度主要作用是什么？
在生物制的洁净车间中对易吸潮品的相对湿度要求45％一50％RH(夏季)，片剂等固体制剂50％～55％RH，水针及口服液55％～65％RH。清洁车间大部分净化厂房尤其电子工业用的洁净厂房都有严格的恒温、恒湿的要求，不仅对厂房内的温、湿度有严格的要求，而且对温度和相对湿度的波动范围也有严格的要求。这样有利于的控制品的生产质量。在大规模集成电路生产的光刻曝光工艺中，作为掩膜板材料的玻璃与硅(silicon)片的热膨胀系数的差要求越来越小。直径100um的硅片，温度上升1度，就引起了0。24um线性膨胀，所以有 plusmn;0。1度的恒温，同时要求湿度值一般较低，因为人出汗以后，对产品将有污染，是怕钠(Sodium)的半导体车间，这种车间不宜超过25度。
乱流洁净室也叫非单向流洁净室，非单向流洁净室的原理是靠洁净送风气流扩散、混合、不断稀释室内空气，把室内污染逐渐排出，达到平衡。简言之，非单向流洁净室的原理就是稀释作用。 特点:乱流洁净室是靠多次换气来实现洁净与洁净级别。换气次数决定定义中的净化级别（换气次数越多，净化级别越高）。